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關(guān)于近紅外傳感器的SOI襯底技術(shù)

文章來源: 人氣:745 發(fā)表時間:2018-01-05

什么是近紅外、SOI,Soitec的技術(shù)對3D傳感器有什么樣的助益,今天賡旭小編在這里梳理一下。

透鏡,濾光片研發(fā)生產(chǎn).jpg

  

  近紅外NIR

  眼動追蹤、面部識別、手勢控制以及夜視功能的攝像頭,這些功能都要用到可見光譜之外的紅外光。根據(jù)紅外線的波長,又可以粗略的分為近紅外、中紅外、遠紅外。遠紅外(FIR)輻射強度和物體溫度有關(guān),記錄的圖像并不清晰。  

  比如像這樣,遠紅外可用作熱傳感。和遠紅外不同的是,近紅外(NIR)接近可見光,生成的圖像近似人眼所見,都是靠物體反射成像。因此,近紅外(NIR)這種人眼不可見(不會對用戶造成干擾),低能耗、精度高這些特性使得它在過去幾年里徹底革新了機器視覺。

  iPhone X的面部識別用到的也是近紅外。結(jié)構(gòu)光也就是把近紅外網(wǎng)格投影到人臉上,根據(jù)采集到的網(wǎng)格、點陣的扭曲來計算3D模型的結(jié)構(gòu)。不過NIR并不是生來完美,靈敏度低、抗干擾性差等問題讓這項技術(shù)沉睡了幾十年的時間,直到九十年代再次被人所重視,進入快速發(fā)展期。

  NIR的局限NIR光學成像成像中,QE代表其捕獲的光子與轉(zhuǎn)化為電子的光子的比率。QE越高,NIR照明距離就越遠,圖像也就越亮。100%的QE意味著所有被捕獲的光子都被轉(zhuǎn)化為電子,從而可實現(xiàn)最亮的可能圖像。但是NIR CMOS圖像傳感器捕獲光的能力有限,量子效率低(QE),此時如果想要轉(zhuǎn)化更多的光子,傳統(tǒng)的做法是使用厚硅,以此提高QE增強信號強度。但是持續(xù)地增加硅的厚度會導(dǎo)致光子跳到鄰近的像元中,產(chǎn)生串擾,此時形成的圖像會變得更模糊。并且這將產(chǎn)生更多的襯底噪音,導(dǎo)致信噪比的降低。

  SOI

  蘋果iPhone X的TrueDepth模組中,NIR圖像傳感器的供應(yīng)商來自Soitec,他們在這款模組的近紅外線(NIR)圖像傳感器中采用了絕緣層上覆硅(SOI)晶圓,提高了NIR傳感器的靈敏度,并且大幅度改善了信噪比,因此能滿足Apple嚴格的要求。

  Soitec在truedepth 3D相機NIR傳感器的深槽隔離(DTI)頂部使用了SOI工藝,為NIR COMS傳感器帶來了SOI襯底,絕緣層就像一面鏡子,紅外光能穿透至更深層,并且反射回主動層。

  在這種優(yōu)化后的SOI襯底的幫助下,能夠大幅度提高信噪比:光捕獲增大,量子效率(QE)提高完全像素隔離而減少了串擾通過BOX(圖中的灰色隔離底層)隔離限制襯底噪聲,隔離金屬污染BOX同樣可以擴散阻擋層以預(yù)防金屬污染可用于300mm的晶元中,BOX的厚度范圍是15nm-150nm,絕緣層上方的硅層滿足“開盒即用”的標準,厚度在50~200nm之間。

  總的來說,SOI大幅提高了NIR的靈敏度,因為它能有效地減少畫素內(nèi)的泄漏。改善的靈敏度提供了良好的影像對比。結(jié)構(gòu)光這類紅外光投射捕捉技術(shù)容易受到可見光的影響,因此Apple采用SOI提高NIR的對比度是非常重要的,以防止在室外可見光干擾較大的時候iPhone X的Face ID失效。Soitec掌握的Smart Cut技術(shù)使其具備全球最好的SOI晶元技術(shù),能夠成功實現(xiàn)SOI的商業(yè)化大規(guī)模量產(chǎn),目前其他先進的SOI企業(yè)的技術(shù)也來自其授權(quán)。不出意外,明年的各家手機旗艦應(yīng)當都會配備上前置的面部識別模組,引發(fā)3D傳感器的市場的增長。3D傳感器也必將在AR/VR、安防、人臉識別等更多領(lǐng)域迎來爆發(fā)。

  


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