經(jīng)典的單層增透膜由一薄層MgF2構(gòu)成，MgF2在510nm時(shí)的折射率為n=1.38，需要的膜厚為d=92nm。因此，在510nm波長(zhǎng)時(shí)膜層有一個(gè)光學(xué)密度（厚度）n*d為1/4的波長(zhǎng)。鍍?cè)诩訜岬?50-300°C的玻璃基底上的MgF2，不但牢固，穩(wěn)定，并且相當(dāng)方便，經(jīng)濟(jì)。
用于玻璃和塑料基底上的增透膜
在光學(xué)系統(tǒng)中，一個(gè)相當(dāng)重要的組成部分是鏡片上能降低反射的鍍膜。在很多應(yīng)用領(lǐng)域中，增透膜是不可缺少的，否則，無(wú)法達(dá)到應(yīng)用的要求。
就拿一個(gè)由18塊透鏡組成的35mm的自動(dòng)變焦的照相機(jī)來(lái)說(shuō)，假定每個(gè)玻璃和空氣的界面有4%的反射，沒(méi)有增透的鏡頭光透過(guò)率為27%，鍍有一層膜（剩余的反射為1.3%）的鏡頭光透過(guò)率為66%，鍍多層膜（剩余的反射為0.5%）的為85%。
用于玻璃基底的增透膜
經(jīng)典的單層增透膜由一薄層MgF2構(gòu)成，MgF2在510nm時(shí)的折射率為n=1.38，需要的膜厚為d=92nm。因此，在510nm波長(zhǎng)時(shí)膜層有一個(gè)光學(xué)密度（厚度）n*d為1/4的波長(zhǎng)。鍍?cè)诩訜岬?50-300°C的玻璃基底上的MgF2，不但牢固，穩(wěn)定，并且相當(dāng)方便，經(jīng)濟(jì)。
想得到更低的反射率，最簡(jiǎn)單的方法是鍍一層CeF3和一層MgF2（各為1/4的光學(xué)厚度），可用蒸發(fā)船。2層膜的優(yōu)點(diǎn)是在可見(jiàn)光范圍的中段有更低的反射率，缺點(diǎn)在于在紅，藍(lán)端的反射率上升過(guò)快。
由于2層膜的效果不理想，為了達(dá)到理想的效果，必須使用3層或多層膜。
經(jīng)典的3層膜由一層1/4光學(xué)厚度的中折射率物質(zhì)（1.6-1.7)，一層1/2光學(xué)厚度的高折射率物質(zhì)(2.0-2.2)和一層1/4光學(xué)厚度的低折射率物質(zhì)組成。最常用的是Al2O3，ZrO2和MgF2。
在整個(gè)光學(xué)敏感段（410-680nm）的反射率低于0.5%。3層增透膜的膜料選擇
膜料對(duì)膜層效果有決定性的影響。除了理想的折射率，每次鍍膜時(shí)穩(wěn)定的折射率，均勻的膜層，低吸收性，牢固性，穩(wěn)定性也非常重要。
MgF2是最常用的第三層低折射率物質(zhì)。但是，由于塑料不能被高溫加熱，用MgF2會(huì)使膜層變軟和不穩(wěn)定，此時(shí)，SiO2是最佳的選擇。
Al2O3是最常用的第一層中折射率物質(zhì)。它的膜層從紅外到紫外線有相當(dāng)高的透過(guò)率，十分牢固，穩(wěn)定，并且每次鍍膜時(shí)有穩(wěn)定的折射率。
ZrO2通常被用作第二層高折射率物質(zhì)。它的優(yōu)點(diǎn)是從250到7000nm有寬廣的透過(guò)率，并且，膜層牢固，穩(wěn)定。但是，每次鍍膜時(shí)呈現(xiàn)不同的折射率，也就是折射率會(huì)隨著膜厚的增加而降低，這種現(xiàn)象可能和它的特殊晶體結(jié)構(gòu)有關(guān)。在五個(gè)單獨(dú)的膜層中ZrO2不同的折射率。我們可以看到和和同次性的膜料相比，折射率有急劇的上升，特別是在中段。ZrO2的另一個(gè)缺點(diǎn)是在蒸發(fā)是它只是部分的溶解，因此，很難得到均勻的膜厚。
為了減少單體氧化物的這些缺點(diǎn)，可以使用混合氧化物。這些混合料可以根據(jù)客戶不同的折射率需要來(lái)生產(chǎn)。
M1在從近紅外到近紫外的波段內(nèi)有很高的透過(guò)率，在300nm時(shí)有吸收。它也能從溶解的狀態(tài)下被蒸發(fā)，具有良好的同次性和均勻的膜厚。此物質(zhì)適合于在高折射率的膜層上鍍?cè)鐾改ぁ?/p>
我們也可以僅用氧化物來(lái)鍍?cè)鐾改ぁＳ袝r(shí)會(huì)需要很薄的膜厚，在膜厚和折射率上微小的變動(dòng)都會(huì)有很大的影響，因此相對(duì)于經(jīng)典的3層膜系來(lái)說(shuō)要難得多。從中可以看出，3層膜在中間波段有最低的反射率，但是4層膜C有著3層膜無(wú)法實(shí)現(xiàn)的從400到700nm寬廣的低于0.5%的反射率。
用于塑料基底的增透膜在塑料基底上鍍膜，我們無(wú)法在鍍膜過(guò)程中加熱基底。因此，我們必須膜料的選擇上倍加小心以確保它能在低溫下形成穩(wěn)定的膜層。此外，由于溫度偏低，折射率也隨之變低，因此，相應(yīng)的膜層設(shè)計(jì)也要改變。
MgF2不能在低溫下被蒸鍍，因?yàn)橹挥性?00°C以上的溫度時(shí)它才能形成穩(wěn)定的膜層。因此，我們只能選擇氧化物來(lái)蒸鍍。
